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SK海力士发力1c DRAM 良率已升至80% 年底将有19万片产能
SK海力士发力1c DRAM 良率已升至80% 年底将有19万片产能
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16天前
SK海力士正加快提升其10纳米第六代(1c)DRAM的竞争力,用于该工艺的极紫外(EUV)设备投资较原计划增加了约三倍。业内人士透露,SK海力士正集中精力推进1c DRAM技术的发展,以应用于第七代高带宽内存(HBM)HBM4E的核心芯片,并计划于今年交付样品。 阅读全文
原文来源:
https://www.cnbeta.com.tw/articles/tech/1557220.htm